1. Low pressure plasmas and microstructuring technology

پدیدآورنده :

کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اسناد دانشگاه شهید مدنی آذربایجان (آذربایجان شرقی)

موضوع : #TA2020.F73 2009,Plasma (Ionized gases), Industrial applications,Plasma engineering,Plasma etching,Ionenstrahlbearbeitung,Niederdruckplasma, Hochfrequenzentladung,PECVD-Verfahren, Sputtern,Plasmaeatzen,Plasmadiagnostik,Hochfrequenzentladung., swd,Ionenstrahlbearbeitung., swd,Niederdruckplasma., swd,PECVD-Verfahren., swd,Plasmadiagnostik., swd,Plasmaeatzen., swd,Sputtern., swd

رده :
TA
,
2020
,.
F73
,
2010

2. Low pressure plasmas and microstructuring technology

پدیدآورنده :

کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اسناد و انتشارات دانشگاه تبریز (آذربایجان شرقی)

موضوع : Plasma (Ionized gases), Industrial applications,Plasma engineering,Plasma etching

رده :
TA2020
.
F73
2009